MP - MG abre inscrições para Processo Seletivo em Belo Horizonte

27/01/2019

A Procuradoria-Geral de Justiça do Ministério Público do Estado de Minas Gerais - MP - MG, por meio do centro de Estudos e Aperfeiçoamento Funcional (CEAF), divulga que estão abertas as inscrições para o Processo Seletivo, visando a contratação de Estagiário de Pedagogia, e a formação de cadastro reserva.

A Seleção destina-se ao preenchimento de uma vaga de estagiário de Graduação em Pedagogia existente na 23ª Promotoria de Justiça (Crianças e Adolescentes - Infracional - Setor Técnico de fiscalização e acompanhamento de medidas socioeducativas em meio aberto e políticas publicas correlatas - SEAPP) na Comarca de Belo Horizonte.

O candidato aprovado e convocado a assumir a vaga, fará jus à bolsa-auxílio mensal do valor de R$ 905,00 e a auxílio-transporte no valor de R$ 7,40 por dia de atividade efetivamente exercida.

Para ser nomeado como Estagiário, o interessado deverá possuir os seguintes requisitos: ser estudante do curso de Pedagogia e estar regularmente matriculado e freqüente em Instituições de Ensino devidamente conveniadas; ter disponibilidade de cinco horas diárias, de segunda a sexta-feira, no período da manhã ou tarde e ter conduta compatível com o exercício das atribuições de estagiário do Ministério Público.

Para requerer a inscrição, o candidato deve encaminhar até o dia 27 de janeiro de 2019, o pedido com as informações estabelecidas no Edital, para o seguinte endereço eletrônico: wnascentes@mpmg.mp.br.

A prova será aplicada na data provável de 11 de fevereiro de 2019, às 10h, no seguinte endereço: Avenida Álvares Cabral, nº. 1740, Santo Agostinho - 1º andar, sala Saber.

O prazo de validade do Processo Seletivo é de um ano, prorrogável por igual período, contado da data de divulgação do resultado final da seleção.

O candidato nomeado para assumir a vaga de estágio deverá apresentar-se no prazo de dez dias contados da data de publicação do resultado no Portal do MP - MG, munido dos documentos estabelecidos no Edital.

 

Fonte:PCI

 

 

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